企业海外参展常见的知识产权风险集中在专利权风险、商标权风险和版权风险三大方面。
1）专利权风险
参展产品融合了最先进的研发成果，因其外型、结构、原理被抄袭而引发的专利侵权纠纷是展会中发生比例最高的。外观设计专利、普通的实用新型专利，内行人只要看一眼，立刻就能模仿。
2）商标权风险
商标具有地域性，在中国注册的商标，只在中国受保护，在参展地没有注册，则不受保护。如果企业的商标在中国注册，但在参展地却被QT人抢注成功，那么企业未经授权在参展地使用该商标就属于侵权行为。此外，如果在商品、包装以及相关广告宣传品上出现了在中国属于通用名称而在QT国家受法律保护的商标时，企业也会在不知情的情况下被视为商标侵权。
3）版权风险
参展企业散发的参展材料中如果使用了他人作品，或者搭建的展台使用了他人设计方案，都会导致侵犯他人版权。展会中，因使用背景音乐、他人摄影作品或美术作品等而被追究责任的纠纷也有发生。企业还应注意展会现场使用的电脑中所承载的软件是否是正版。
